晶圆清洗机是半导体制造过程中至关重要的设备之一，主要用于清洗晶圆表面上的杂质、污垢和化学残留物，以确保晶圆表面的洁净度和质量。这些杂质和污染物的存在可能会影响后续的光刻、蚀刻、沉积等工艺，进而影响芯片的性能和可靠性。因此，晶圆清洗是半导体生产中一个关键的工艺步骤。晶圆清洗机的工作原理：1.超声波清洗：利用超声波的高频振动将晶圆表面上的污垢、污染物分散开来。超声波的作用可以有效去除微小的颗粒和化学残留物。2.喷淋清洗：使用高压的喷淋系统将化学溶液喷射到晶圆表面，帮助去除污染物。...

全自动磁控溅射系统是一种高效的薄膜沉积设备，广泛应用于材料科学、半导体、光电显示、太阳能电池和传感器等研究与产业领域。该系统利用磁控溅射技术，在真空环境中将靶材中的原子或分子高效地沉积到基底上，从而形成所需的薄膜。全自动磁控溅射系统的工作原理：1.真空环境：先需要在真空室内创建一个高真空环境，以减少气体分子对溅射过程的干扰并提高沉积质量。2.靶材准备：将靶材（通常由金属、合金或陶瓷材料组成）固定在系统的靶位上，靶材是薄膜的主要成分。3.等离子体生成：系统通过在真空室内引入惰性...

全自动磁控溅射系统是一种用于薄膜沉积技术的设备，广泛应用于半导体、光电、光学薄膜、传感器等领域。该系统利用高能离子束轰击靶材，通过物质溅射的方式，在基材表面沉积薄膜。全自动磁控溅射系统的基本原理：1.气体离子化：在高真空环境中，惰性气体（如氩气）被导入腔体，施加高频电压形成等离子体，使气体部分离子化。2.离子加速：离子被电场加速并朝向靶材运动。3.靶材溅射：高速运动的离子与靶材发生碰撞，使靶材表面原子获得足够的能量，从而逸出表面，形成溅射物质。4.薄膜沉积：溅射出的原子在腔体...

磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（PVD）技术，广泛应用于薄膜材料的制备。其基本原理是利用高能粒子轰击靶材，导致靶材原子或分子逸出，并在基材表面沉积形成薄膜。该过程通常在真空环境中进行，以确保沉积过程中的纯净和无污染。全自动磁控溅射系统的部分组成：1.真空腔体：作为整个溅射过程的核心部分，真空腔体配备有高效的抽真空系统，确保低压环境。2.靶材和基材架：靶材通常采用高纯度的金属或合金，根据不同的沉积需求选择；基材架则负责固定待涂覆的基材，确保在溅射过程中的稳定性。3.磁场系统：...

飞行时间二次离子质谱法（TOF-SIMS）是一种高度灵敏的表面分析技术，可揭示样品顶部几个原子层的质谱数据。Kore很荣幸成为InnoviaFilms的TOF-SIMS供应商，InnoviaFilms是一家材料科学公司，为包括标签、包装以及钱币在内的各种产品生产基础膜。InnoviaFilms与Kore接洽，要求研究其高度差异化的双向拉伸聚丙烯（BOPP）薄膜的不同表面处理。Kore设计的SurfaceSeer仪器成为Kore后续TOF-SIMS仪器的基础，并为Innovia...

便携式飞行时间质谱仪（PortableTime-of-FlightMassSpectrometer,TOF-MS）是一种高灵敏度、高分辨率的分析工具，广泛应用于环境监测、食品安全、药物检测、军事安全等领域。与传统的实验室质谱仪相比，具有体积小、重量轻、操作简便等特点，使其能够在现场快速进行分析和检测。便携式飞行时间质谱仪的工作原理：1.样品离子化：样品先通过离子化源被转化为离子。常见的离子化方法包括电喷雾离子化（ESI）、基质辅助激光解吸/电离（MALDI）和化学离子化（CI...