• 产品名称:AL76微波等离子去胶清洗机

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    产品特点:AL76微波等离子去胶清洗机:AL76等离子系统适用于批量生产,也可以i满足研发及实验室应用。并且,此系统可以满足360度的芯片封装需要、工业、医药等领域。AL76系统是一款创新型的通用设备,可选配旋转转盘,及ECR(电子回旋共振)装置。

    AL76微波等离子去胶清洗机的详细资料:

    微波等离子清洗去胶

    AL76微波等离子去胶清洗机概述:AL76等离子系统适用于批量生产,也可以i满足研发及实验室应用。并且,此系统可以满足360度的芯片封装需要、工业、医药等领域。AL76系统是一款创新型的通用设备,可选配旋转转盘,及ECR(电子回旋共振)装置。

    AL76微波等离子去胶清洗机技术参数:

    • 腔体:铝
    • 容积:76公升
    • 尺寸:宽度400毫米×深度490毫米×高度400毫米
    • 腔室门:带观察窗口的铰链式门
    • 微波源:2.45GHz,可调50-1200W
    • 气体进气:3路数字显示的质量流量器控制
    • 真空计: Pirani,1-1000Pa
    • 真空系统:DN 63 ISO-KF
    • 真空阀:电动气动阀

    系统控制:

    • PC, Windows, RS 232, USB, Ethernet (也适用于远程控制)
    • 10.4”触摸屏、图形用户界面
    • Windows Office兼容
    • 存储处理数据和错误信息,处理数据输出
    • 工艺参数图形曲线的 监测
    • 自动或手动操作

    选配:

    • 真空泵 : 真空泵组,如,抽吸能力大250m3/h
    • 气路:额外的数字显示质量流量控制器(可支持到4路)
    • 旋转台:铝,直径350mm,速度可调
    • ECR(电子回旋共振):铝、支架配置永磁体

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