• NDR-4000(A)全自动DRIE深反应离子刻蚀:全自动上下载片,带低温晶圆片冷却和偏压样品台的深硅刻蚀系统,带8“ICP源。系统配套500L/S抽速的涡轮分子泵,可以使得工艺压力达到几mTorr的水平。在低温刻蚀的技术下,系统可以达到硅片的高深宽比刻蚀。
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