• NSC-3000(M)磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7Torr,15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
  • NSC-1000磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达6“旋转平台,支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7Torr,15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
  • NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机:先进的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7Torr,15分钟内可以达到10-6Torr的真空。通过使用RF射频开关,RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
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